«Ситроникс» в партнерстве с «Роснано» открыл на заводе «Микрон» в Зеленограде линию по производству микросхем на основе технологии 90 нанометров.
Об этом сообщили в пресс-службе «Ситроникса». Торжественное открытие состоялось 17 февраля с участием недавно назначенного вице-премьера Дмитрия Рогозина, курирующего в правительстве РФ военно-промышленный комплекс. Запуск новой линии позволит нарастить производственную мощность «Микрона» в два раза до 36 тысяч пластин диаметром 200 мм в год, заявили в компании. Общий бюджет проекта составляет 16,5 млрд рублей, включая софинансирование «Роснано» в размере 6,5 млрд рублей.
Для старта нового производства на заводе «Микрон» дополнительно построено 700 квадратных метров чистых зон и расширена инфраструктура фабрики, установлено 45 дополнительных единиц оборудования. Всего в проекте приняли участие более 50 компаний из 12 стран мира. Более 110 инженеров завода прошли стажировки на партнерских производствах и исследовательских базах за рубежом.
Микросхемы, изготовленные по технологии 90 нм, будут использоваться в вычислительных комплексах, системах автоматизации производства, загранпаспортах, смарт-картах и применениях, связанных с электронным правительством. Отечественная производственная база позволит российским высокотехнологичным компаниям создавать устройства с уникальными свойствами, обеспечивающими их выход на мировые рынки.
По словам заместителя председателя правления «Роснано» Андрея Малышева, сейчас в мире доля продукции на чипах с топологией 90 нм и выше составляет около 75%. Как заявил президент «Ситроникса» Сергей Асланян, проект создает условия «для возрождения российской «Кремниевой долины» и воспитания кадров мирового уровня». «Мы собрали лучшую в России команду инженеров и ученых, около 300 специалистов прошли стажировки на ведущих мировых производствах, а десятки инженеров, уехавших на работу за рубеж, возвращаются», — подчеркнул Асланян.
