ОАО «НИИМЭ и Микрон» и окружное управление образования начали совместную программу, в рамках которой школьники старших классов посетят микроэлектронное производство Зеленограда.
Как сообщили в пресс-службе «Микрона», программа нацелена на повышение интереса к профессиям в области микроэлектроники. В январе и феврале завод посетили уже три группы зеленоградских школьников. Они увидели работу «чистой комнаты», узнали, как организовано производство чипов на пластинах диаметром 200 мм, пообщались с руководством цеха. В течение двух месяцев с полупроводниковым производством на «Микроне» познакомятся около 100 школьников старших классов.
«Мы хотим показать ребятам, насколько интересна и перспективна работа в высокотехнологичных отраслях и, в частности, в микроэлектронике, а главное, какие конкретные шаги нужно сделать и какие знания получить, чтобы иметь возможность через несколько лет заниматься на «Микроне» научными исследованиями или работать на производстве», — сказала заместитель директора окружного методического центра Ольга Рылова.
По словам начальника кристального производства Сергея Ранчина, фабрика на «Микроне» по уровню не уступает современным полупроводниковым производствам, однако кадровый голод в промышленности ощущается особенно остро. Инженерные специальности пока не считаются «модными» у молодежи. «Мы показываем ребятам то, что врядли они увидят еще в России, и, думаю, кто-то из них обязательно «загорится» и придет работать на «Микрон», — подчернул Ранчин.
В 2009 году практику на предприятии прошли около 160 студентов из ведущих российских вузов.
ОАО «НИИМЭ и Микрон» входит в состав ОАО «Ситроникс», где является головным предприятием бизнес-направления «Ситроеникс Микроэлектроника». Выручка компании в 2009 году составила 207,9 млн долларов OIBDA — 44 млн долларов. В компании трудятся около 1700 сотрудников. Предприятие имеет около 400 заказчиков в России и 100 за рубежом, на постоянной основе сотрудничает с более чем 50 отраслевыми и академическими НИИ и центрами проектирования. В 2007 году «Микрон» запустил производство микросхем с топологическим уровнем 0,18 микрон по технологии EEPROM. В 2009 году стартовал совместный проект с ГК «Роснано» по созданию на базе «Микрона» производства интегральных схем с топологией 90 нм на пластинах 200 мм.
