Зеленоградский нанотехнологический центр ввел в эксплуатацию сборочно-испытательный комплекс для расширения серийного производства и ускорения вывода стратегически важных продуктов электроники на отечественный рынок.

О намерении расширить производственные мощности, открыть сборочно-испытательный комплекс (СБИК) и фаундри-сервис для дизайн-центров и предприятий микроэлектроники в ЗНТЦ сообщали еще прошлым летом. По данным мэрии Москвы, на сегодняшний день комплекс площадью 1200 кв. метров на 25 рабочих мест и производственной мощностью до 200 тысяч микросхем в месяц введен в эксплуатацию. При этом инвестиции ЗНТЦ в проект превысили 300 млн рублей.

На новых площадях, включая чистые зоны, соответствующие международным стандартам качества, ЗНТЦ будет создавать и тестировать электронную компонентную базу, в том числе разработки российских дизайн-центров, имеющих ограниченный доступ к производственным мощностям. Главными направлениями работы сборочно-испытательного комплекса станут внедрение технологии сборки микросхем в полимерные корпуса для обработки данных, телекоммуникационной инфраструктуры и авиационной отрасли и организация полного цикла производства высоковольтной и СВЧ‑электроники на основе нитрида галлия на кремнии для источников питания, зарядных станций, базовых станций 5G и электротранспорта.

Зеленоградский нанотехнологический центр, базирующийся на площадке «МИЭТ» Особой экономической зоны «Технополис "Москва"», был основан в 2010 году при участии «Роснано», МИЭТа и Зеленоградского инновационно-технологического центра (ЗИТЦ). На сегодняшний день ЗНТЦ является ведущим разработчиком и производителем современной компонентной базы. В продуктовой линейке компании представлены такие продукты, как преобразователи физических величин, микросхемы предварительной обработки сигналов, сенсоры магнитной индукции, СВЧ-модули и быстродействующая логика. В последние годы ЗНТЦ занимается развитием технологии GaN(Si) и разработкой фотонной компонентной базы и продукции на ее основе. Кроме того, компания приняла участие в разработке первого отечественного фотолитографа с разрешением 350 нанометров.