Зеленоградский нанотехнологический центр разработал установку безмасочной электронно-лучевой литографии с проектными нормами 150 нанометров.

О создании опытного образца установки «Прогресс ЭЛЛ 150» стало известно из тендерной документации на его транспортировку, размещенной ЗНТЦ на сайте Центра электронных торгов, с датой окончания приема заявок 21 июля. Кто получатель груза, не раскрывается, но установка будет направлена за 2 тысячи километров от Зеленограда, сообщает издание CNews со ссылкой на директора ЗНТЦ Анатолия Ковалева. «Сейчас два опытных образца проходят комплекс испытаний, которые продлятся около четырех месяцев. После этого начнутся испытания на точность изображения и другие технологические параметры», — рассказал CNews Ковалев.

Ключевой особенностью разработки ЗНТЦ является безмасочная технология. В отличие от обычной фотолитографии, где рисунок на пластину переносится через фотошаблон, электронно-лучевая литография «рисует» изображение непосредственно на покрытой электрочувствительным резистом пластине с помощью сфокусированного пучка электронов. Это делает электронно-лучевую литографию эффективной для разработки новых микросхем, прототипирования, научных исследований и мелкосерийного производства, где невыгодна частая смена фотошаблонов. С помощью установки можно не только работать непосредственно с пластиной без фотошаблона, но и изготавливать сами фотошаблоны. Причем, установка ЗНТЦ позволяет делать это самостоятельно, без передачи топологии иностранным подрядчикам.

Технологии с проектными нормами 150 нанометров, по мнению экспертов, востребованы в автоэлектронике, бытовой технике, в аналоговых микросхемах, схемах управления питанием, промышленной автоматике и многих других сферах, где важна не пиковая производительность, а надежность, устойчивость производства и длительный срок службы.

Напомним, что разработка ЗНТЦ линейки литографов в сотрудничестве с белорусским производителем литографического оборудования «Планар» началась еще в 2022 году. В мае 2024 года ТАСС сообщил, что первый российский литограф с топологическими нормами до 350 нанометров создан и проходит испытания. В сентябре того же года между ЗНТЦ и «Микроном» было заключено соглашение о сотрудничестве в освоении технологий и производстве в России фотолитографического оборудования с нормами 350–90 нанометров. Согласно этому соглашению ЗНТЦ отвечал за разработку оборудования, а «Микрон» — за постановку технологического процесса и доведения разработки до серийного производства. Весной 2025 года создание фотолитографа было завершено, и осенью оборудование уже нашло первого покупателя — входящие в ГК «Элемент» «Отраслевые решения».

Параллельно ведутся работы над оборудованием с нормой 130 нанометров — его поставки на рынок, по словам представителей ЗНТЦ, начнутся в 2028 году, а до 2030 года уже запланирована поставка нескольких установок микроэлектронным производствам. Весной этого года на разработку опытного образца кластерной линии фотолитографии для изготовления интегральных схем на пластинах диаметром 200 мм с топологическими нормами до 180–130 нанометров министерство промышленности и торговли выделило ЗНТЦ 2,82 млрд рублей.

По данным CNews, к 2027 году ЗНТЦ планирует перейти на технологию 90 нанометров, а к 2030 году — освоить 65 нанометров.